韓国の半導体製造企業・SK hynixが2024年11月21日に、世界初となる321層1Tb(テラビット：125GB)TLC(Triple Level Cell)4D NANDフラッシュメモリの量産を開始したことを発表しました。
300層以上の積層は、SK hynixがメモリセルのスタックを3つにする「3プラグ」プロセス技術の採用に成功したことで実現したそうです。SK hynixはこの技術について「優れた生産効率で知られるこのプロセスは、3回のプラグ工程の終了後、最適化されたフォローアップ工程を経て、3つのプラグを電気的に接続します。このプロセスにおいて我々は半導体の反りを防止する低応力材料を開発し、プラグ間のアライメントを自動で補正する技術を導入しました」と説明しました。 以下はセルのレイヤー数と水平密度を増やし、ビット数を大幅に増加させる技術「Multi-Site Cell」の説明です。これにより、SK hynixはNANDフラッシュメモリの大容量化・高速化・信頼性向上に成功したそうです。このNANDについてSK hynixは「低消費電力と高性能が求められる初期のAIアプリケーションに対し、今回の321層NANDを提供することで、製品用途を着実に拡大させていきます」と語っています。また、SK hynixのNAND開発責任者であるJungdal Choi氏は「SK hynixは、 が主導するDRAM事業に加えて、超高性能NAND分野の完璧なポートフォリオを追加することで、フルスタックAIメモリプロバイダーへと前進する軌道に乗っています」と述べ、AIデータセンターとオンデバイスAI向けのSSDに代表されるAIストレージ市場のけん引に一歩近づいたことをアピールしました。.
300層以上の積層は、SK hynixがメモリセルのスタックを3つにする「3プラグ」プロセス技術の採用に成功したことで実現したそうです。SK hynixはこの技術について「優れた生産効率で知られるこのプロセスは、3回のプラグ工程の終了後、最適化されたフォローアップ工程を経て、3つのプラグを電気的に接続します。このプロセスにおいて我々は半導体の反りを防止する低応力材料を開発し、プラグ間のアライメントを自動で補正する技術を導入しました」と説明しました。 以下はセルのレイヤー数と水平密度を増やし、ビット数を大幅に増加させる技術「Multi-Site Cell」の説明です。これにより、SK hynixはNANDフラッシュメモリの大容量化・高速化・信頼性向上に成功したそうです。このNANDについてSK hynixは「低消費電力と高性能が求められる初期のAIアプリケーションに対し、今回の321層NANDを提供することで、製品用途を着実に拡大させていきます」と語っています。また、SK hynixのNAND開発責任者であるJungdal Choi氏は「SK hynixは、 が主導するDRAM事業に加えて、超高性能NAND分野の完璧なポートフォリオを追加することで、フルスタックAIメモリプロバイダーへと前進する軌道に乗っています」と述べ、AIデータセンターとオンデバイスAI向けのSSDに代表されるAIストレージ市場のけん引に一歩近づいたことをアピールしました。
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